高分辨率透射电镜(HRETM)
Hrtem - jem-2100f (jeol)
JEM-2100F是一种先进的场发射透射电子显微镜，具有超高分辨率和快速数据采集. JEM-2100F是下一代TEM，简化了生物学中的原子水平结构分析, 医学, 材料科学以及半导体和制药行业.
JEM-2100F的开发是为了在200kV级分析TEM中实现最高的图像质量和最高的分析性能，探针尺寸小于0.5 nm. 新的侧入式测角仪提供了易于使用的倾斜, 旋转, 加热和冷却, 可编程多点设置-所有没有机械漂移. ODU-ARC的JEM-2100F配备了Oxford Xplore SDD探测器, 1100万像素的Gatan SC1000 ORIUS CCD相机, 和Gatan 626单倾斜液氮低温转移支架.
| 项 | 价值 |
|---|---|
| 加速电压 | 200 kV |
| 电子枪 | ZrO/W(100)场发射 |
| 成像 模式 |
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| 决议 |
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| 放大 |
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| 光斑大小 |
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| CCD相机 | Gatan SC1000 ORIUS CCD相机(1100万像素) |
| EDS单位 | Oxford Xplore SDD探测器 |
| EDS模式 |
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应用研究中心低温透射电镜技术设备.
JEM-2100F具有表征辐射敏感、冷冻水合试样的能力. ARC的低温透射电子显微镜(cryo- tem)设备包括a Gatan 626单倾斜液氮低温转移支架, a Gatan 655型干泵站，以及可编程的 Gatan 900 SmartSet温度控制器.
TEM试样制备实验室配备了各种工具，包括抛光机, 金刚石锯, 酒窝, 离子研磨机，用于制备用于TEM观察的样品.
参jeol jsm-6060lv
特点:
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JEOL JSM-6060LV分辨率为3.5 nm高真空扫描电镜模式和4.0nm低真空扫描电镜模式.
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新研制的电子光学器件的最低放大倍数为5倍.
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样品室的高度足以容纳50mm高的样品，并配有一个离心样品台.
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操作图形用户界面(GUI)具有自动化功能, 配方(自定义应用程序设置), 一个简单的桌面出版商和一个可浏览的图像数据库，从观察到报告创建的舒适操作.
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低真空扫描电镜模式使人们能够观察和分析不导电, 湿, 或高真空不相容标本.
| 项 | 规范 |
|---|---|
| 加速 电压 | 5-30 kV |
| 成像模式 |
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| 决议 |
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| 放大 | 5X - 300,000X |
| EDS单位 | Thermo Scientific UltraDry高级EDS探测器 |
| EDS模式 |
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Rigaku MiniFlex II台式x射线衍射仪
Rigaku Miniflex II可用于各种应用，从粉末样品和金属板等多晶材料的衍射图案比较到原材料和产品的定性和定量分析和质量管理. 台式仪器使用CuKα辐射，是粉末和薄膜样品的快速数据收集的理想选择，从简单的氧化物到复杂的化合物.
测量:
- 识别阶段
- 相位量化(相位ID)
- 结晶度百分比(%)
- 晶粒尺寸和应变
- 点阵参数细化
- 里特维德细化
- 分子结构
布鲁克尺寸边缘
Dimension Edge采用了布鲁克的PeakForce攻丝技术，提供最高水平的原子力显微镜(AFM)性能, 功能, 和可访问性. 基于Dimension Icon平台, Edge系统从上到下设计，提供低漂移和低噪声，在几分钟内而不是几小时内获得发布就绪的数据, 所有这些价格都远低于预期的表现. 集成的视觉反馈和预配置的设置使专家级的结果简单和一致, 为每个设施和用户提供最先进的大样本AFM功能和技术.
特点:
- 闭环的准确性
- 大样本舞台
- 自动图像优化
AFM模式:
- 开发模式
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- 导电AFM (C-AFM)
- 表面电位显微镜(SPoM)
- 侧向力显微镜
- 磁力显微镜
- 电磁力显微镜
- ScanAsyst
- 黑暗的电梯
- 力光谱学
- Nanoindentation,
- 纳米
- 附着力
- Phase成像
- Lift模式
VEECO尺寸3100
Dimension 3100 AFM是一种能够对水平和垂直分辨率低至纳米几分之一的样品进行成像的仪器. 该仪器的工作原理是测量一个微米大小的悬臂上的尖头在扫描试样表面时产生的挠度, 这为用户提供了表征材料和纳米结构表面粗糙度的能力. 仪器可以处理的样品尺寸范围从小片到4英寸直径的晶圆片.
扫描模式:
- 开发模式
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LAMBDA 45 UV/Vis系统(PerkinElmer)
λ 45紫外/可见分光光度计从珀金埃尔默可用于测量液体, 固体, 贴, 粉末样品和要求可变带宽和高散射光样品的监管试验. 附加的前置单色器将杂散光减少2倍, 为混浊和光散射液体样品提供最佳性能, 如生物溶液和悬浮液.
特点:
- 真正的双光束操作非常高的稳定性，更高的精度和再现性
- 1纳米分辨率和低杂散光设计轻松通过所有药典和法规性能测试
- 最广泛的可重复和强大的采样配件，以简化和加快您的分析, 无论你的样本是什么
- 预先对准的氘和钨卤灯，增加正常运行时间
- 选择UV WinLab软件，简化从样品输入到报告生成的分析